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公司主要代理韩国INSTAR CO., LTD.（英仕达）的清洗剂，蚀刻液等产品，专业为半导体生产企业提供硅产品表面清洗，蚀刻等用途产品。近年来，随着半导体线路微细化的不断发展，在石英，硅片清洗过程中对颗粒、金属污染的去除要求越来越高，我公司所进口的蚀刻液，清洗剂可以满足半导体制造中对硅环，硅片，以及石英材料去除杂质的工艺需求，是半导体材料硅产品清洗的解决方案提供商。
产品主要成分
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硫酸 |
H₂SO₄ |
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二氧戊烷 |
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碳酸钾 |
K₂CO₃ |
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焦磷酸钾 |
K₄P₂O₇ |
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氟化氢铵 |
NH4HF2 |
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二氧戊环 |
C3H6O2 |
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硝酸钾 |
KNO3 |
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过硫酸铵 |
(NH4)2S2O8 |
