蚀刻液

23/09/27 14:37:09


公司主要代理韩国INSTAR CO., LTD.(英仕达)的清洗剂,蚀刻液等产品,专业为半导体生产企业提供硅产品表面清洗,蚀刻等用途产品。近年来,随着半导体线路微细化的不断发展,在石英,硅片清洗过程中对颗粒、金属污染的去除要求越来越高,我公司所进口的蚀刻液,清洗剂可以满足半导体制造中对硅环,硅片,以及石英材料去除杂质的工艺需求,是半导体材料硅产品清洗的解决方案提供商。

产品主要成分

硫酸

H₂SO₄

二氧戊烷

C3H6O3

碳酸钾

K₂CO₃

焦磷酸钾

K₄P₂O₇

氟化氢铵

NH4HF2

二氧戊环

C3H6O2

硝酸钾

KNO3

过硫酸铵

(NH4)2S2O8

没有了

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